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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GRS2000鋰電池漿料超高速分散機(jī)

    鋰電池漿料超高速分散機(jī),石墨烯高速研磨分散機(jī),碳納米管高剪切研磨機(jī),鈦酸鋰高速分散機(jī),SGN管線式高剪切研磨分散機(jī)采用德國的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及雙端面機(jī)械密封技術(shù),可以將設(shè)備轉(zhuǎn)速從3000轉(zhuǎn)Z高可調(diào)制14000rpm。

    更新時(shí)間

    2025-04-07

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  • GMD2000/4氧化還原石墨研磨分散機(jī)

    氧化還原石墨研磨分散機(jī),SGN石墨烯研磨設(shè)備采用德國的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流

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    2024-08-28

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  • GMD2000/4高品相鎳粉高剪切研磨分散機(jī)

    高品相鎳粉高剪切研磨分散機(jī),鎳粉有著廣泛的應(yīng)用,所以,高品相鎳粉的研磨與分散必須選擇高品質(zhì)的研磨分散設(shè)備,才能保證鎳粉的細(xì)度和均勻度,SGN研磨分散機(jī)先研磨后分散,避免團(tuán)聚,粒徑一般可細(xì)化至DN90≤5μm,粒徑更細(xì),產(chǎn)品更均勻。

    更新時(shí)間

    2024-08-28

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  • GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散機(jī)

    GMD2000沉淀活性二氧化硅研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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    2024-08-28

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  • GMSD2000??納米樹脂研磨分散機(jī)

    SG?納米樹脂研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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    2024-08-28

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  • GRS2000阿維菌素納米農(nóng)藥分散機(jī)

    阿維菌素納米農(nóng)藥分散機(jī)主要用于微乳液及超細(xì)懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

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    2025-04-07

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  • GMD2000胃溶性包衣研磨分散機(jī)

    胃溶性包衣研磨分散機(jī)GM2000采用了三級(jí)錯(cuò)齒磨頭定轉(zhuǎn)子,磨頭定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.7之間,間隙可通過調(diào)節(jié)高速研磨機(jī)本身的調(diào)節(jié)柄來調(diào)節(jié)設(shè)備間隙,在轉(zhuǎn)速不變的情況下,間隙越小,速膠體磨研磨、分散效果會(huì)越好。

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    2024-08-28

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  • GRS2000納米氧化鋅超細(xì)分散機(jī)

    SGN納米氧化鋅超細(xì)分散機(jī)采取直立式設(shè)計(jì),使物料可以全部進(jìn)入分散腔,符合工藝要求和流體力學(xué)要求,增加其工作效率,z低處出口的出料設(shè)計(jì)符合生產(chǎn)要求,垂直的壓力使得該機(jī)器工作更加穩(wěn)定,同時(shí)便于清潔。

    更新時(shí)間

    2025-04-03

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